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赤外線加熱型昇温脱離分析装置TDS1200Ⅱは、超高真空中で試料をプログラム昇温した際に脱離する分子を質量分析計でリアルタイム観測する分析装置です。
赤外線セラミック加熱プレート。
加熱方式赤外線ヒーター。
照明と加熱赤外線ランプの組み合わせの問題であなたを助けます。
年(平成20年9月)日本貿易振興機構(ジェトロ)より輸出有望案件発掘支援事業に赤外線導入加熱装置の支援決定を受ける。
さらに、加熱制御方法を工夫したことにより、従来の赤外線式加熱装置と比べても薄板CFRPの高品質な加熱成形が可能となります。
遠赤外線による加熱原理。
赤外線ランプ加熱でお客様のニーズにお応えします。
保持まで10秒!赤外線ランプ加熱で2インチから300mmまでの高速熱処理。
年(昭和63年3月)赤外線導入加熱装置(GV型)を開発。
赤外線ランプ加熱により石英製反応管はコールドウォールで、放出ガスがほとんどありません。
赤外線導入加熱装置、小型真空チャンバー、測温試料部、定値温度制御器等で構成されます。
赤外線加熱のフィルム4。
赤外線加熱ランプ-UVランプ。
赤外線加熱ラジアン電気ヒートストリップ。
断熱材遠赤外線加熱ショール。
赤外線加熱パネル:タイプ、特性、レビュー。
赤外線乾燥炉赤外線ランプ塗装ブース赤外線加熱ペイントブース。
白色3600Wのパワーで放射赤外線加熱。
マッサージ器Gezatoneマッサージクッション"良い仲間と赤外線加熱。