PROCESS PERFORMANCE in Japanese translation

• プロセスパフォーマンスの
• プロセス性能を
• 加工性能
• プロセス遂行
• 工程性能について

Examples of using Process performance in English and their translations into Japanese

The effects of deployed process improvements are measured using statistical and other quantitative techniques and compared to quality and process performance objectives.
このプロセス向上の効果は統計や他の量的手法を用いて測定され、品質やプロセスパフォーマンス目標と比較します。

The drivers will be costs(chemicals, high purity water consumption and infrastructure), process performance and safety.
要因となるのはコスト(化学薬品、高純度水の消費量とインフラ)、処理能力と安全性です。

A continuous stream of data throughout an experiment provides a link between process parameters and product quality or downstream process performance.
実験全体を通じた連続的なデータストリームにより、プロセスパラメータと製品品質またはプロセスパフォーマンスとの間を結び付けることができます。

APC Advanced Process Controls Maximizing process performance is a critical success factor as it directly increases profitability by reducing the operational expenditure required to deliver an end product whether it be power, pulp or paper.
APC高度プロセス制御プロセスパフォーマンスの最大化は、電力、パルプ、紙のいずれにしても、最終製品の提供に必要な運用支出を削減することによって、収益性を直接増加するため、不可欠な成功要因です。

Maximizing process performance is a critical success factor as it directly increases profitability by reducing the operational expenditure required to deliver an end product whether it be power, pulp or paper.
プロセスパフォーマンスの最大化は、電力、パルプ、紙のいずれにしても、最終製品の提供に必要な運用支出を削減することによって、収益性を直接増加するため、不可欠な成功要因です。

Compared with ordinary steel, special steel has a higher strength and toughness, physical properties, chemical properties, biocompatibility and process performance.
特殊鋼は、通常の鋼と比較して、より高い強度と靭性、物理的性質、化学的性質、生体適合性およびプロセス性能を有する。

The latest generation Valmet IQ consists of all the devices and applications needed to monitor and optimize both process performance and end product quality.
最新世代のValmetIQは、プロセスのパフォーマンスと最終製品の品質の両方を監視し、最適化するために必要なすべてのデバイスとアプリケーションで構成されています。

Comprehensive solutions move your performance forward The latest generation Valmet IQ consists of all the devices and applications needed to monitor and optimize both process performance and end product quality.
包括的なソリューションによるパフォーマンスの向上最新世代のバルメットIQは、プロセスのパフォーマンスと最終製品の品質の両方を監視し、最適化するために必要なすべてのデバイスとアプリケーションで構成されています。

Takumi™ probe cards for in-line and end-of-line parametric testing give IC manufacturers earlier insight into opportunities to validate their designs, verify process performance and achieve higher yields.
イン・ラインと行末パラメトリックテストのための匠™プローブカードは、ICのメーカーは、彼らのデザインを検証するプロセスのパフォーマンスを検証し、より高い利回りを達成するための機会に、以前の洞察力を与えます。

Takumi™ probe cards for in-line and end-of-line parametric testing give IC manufacturers earlier insight into opportunities to validate their designs, verify process performance and achieve higher yields.
インラインおよびエンドオブラインパラメトリック試験向けのTakumi™プローブカードは、設計検証、プロセス性能の確認、高い歩留まりを実現する機会について、ICメーカーに早期の洞察を提供します。

Valmet's complete high quality fabric solutions improve paper making process performance, contribute to efficient production, reduced energy consumption and overall cost reduction in all types of paper and board machines.
バルメットの完全で高品質のファブリックのソリューションは、あらゆるタイプの紙・板紙抄紙機で抄紙プロセスの性能を改善し、効率的な生産、エネルギー消費の削減および全体のコスト削減に貢献します。

We offer a complete line of premium performance analytical probe solutions for on-wafer probing, board test and package test that help increase process performance while reducing cost of ownership.
オンウェーハプロービング、ボードテスト、パッケージテスト向けのプレミアムパフォーマンス分析プローブソリューションの完全なラインアップを提供し、所有コストを削減しながらプロセスパフォーマンスを向上させます。

Transparency into automated processes provides the ability not only to demonstrate compliance and accountability, but also provides real-time insight into process performance for better decision making.
自動化されたプロセスが可視化されることにより、コンプライアンスと説明責任を果たすことができるだけでなく、より良い意思決定のためにリアルタイムの情報がプロセスパフォーマンスに提供されます。

At present, iron-based powder metallurgy materials are developing in the direction of high density, high strength and complex shape, and higher and higher requirements are imposed on the process performance of the raw material iron powder.
現在、鉄系粉末冶金材料は高密度、高強度、複雑形状の方向に発展しており、原料鉄粉のプロセス性能にはより高い要求と高い要求が課されている。

Maintenance services for automation systems of board, paper and tissue machines| Valmet Through proper planning and condition-based maintenance, qualified maintenance helps limit costs and increase maintenance efficiency, while still achieving availability targets and maximizing process performance.
オートメーション向けメンテナンスサービス適切なプランニングと条件に基づいたメンテナンスにより、適正なメンテナンスはコストの抑制とメンテナンスの効率アップを可能にしつつ可用性目標を達成し、プロセスのパフォーマンスを最大化します。

Takumi extends FormFactor's advanced probing technology further into the front end of the semiconductor manufacturing process- giving IC manufacturers earlier insight into opportunities to validate their designs, verify process performance and achieve higher yields.
Takumiは、FormFactorの高度なプロービングテクノロジーを半導体製造プロセスのフロントエンドにまで拡張し、ICメーカーが設計を検証し、プロセスパフォーマンスを検証し、より高い歩留まりを達成する機会を早期に洞察できるようにします。

Challenge: Enhance use of pressure control for improved tool results Every system that measures and controls process gas flow can enhance deposition control and process performance through simultaneous- and precise- pressure measurement and control.
課題:ツールの効果を強化するため、圧力制御を向上プロセスガス流量を測定し、制御するシステムは、同時かつ精密に圧力を測定・制御することにより、沈着を抑え、プロセス性能を向上することができます。

In the process performance field, EBARA's own development of the unique vertical plating cell technology and high speed paddling technology, which has already been used in the mass production of leading semiconductor manufacturers, achieves the highest level of performance in the industry.
また、プロセス性能においては、当社が独自開発し、様々な先端半導体製造のお客様で既に量産採用されている縦型めっきセル構造、高度な撹拌機能の技術を継承・改良することで業界最高レベルを達成しています。

How Simulation-Based Digital Twins and the Industrial Internet of Things Can Improve Product and Process Performance- White Paper Simulation has long been used to improve the design of nearly every physical product or process by providing the opportunity to evaluate a wide range of alternative designs prior to building physical prototypes.
シミュレーションベースのデジタルツインとモノのインターネットによる製品やプロセスのパフォーマンスの改善|アンシス・ジャパン株式会社物理的なプロトタイプを作成する前に幅広い設計候補を評価できるシミュレーションは、ほぼすべての物理的製品またはプロセスの設計を改善する目的で長年に渡って使用されてきました。

Fusing the acquired technology of precision measuring instrument and semiconductor manufacturing equipment, Accretech fully meets the process performance required in advanced devices, and proposes CMP systems(ChaMP series) for 300 mm wafer responded to the demand from volume-production plant.
ACCRETECH（東京精密）は、これまで培ってきた精密計測機器及び半導体製造装置の技術を融合し、先端デバイスで要求されるプロセス性能に十分に応えると共に、量産工場における要求にも応えた300mmウェーハ対応CMP装置(ChaMPシリーズ)を提案いたします。