SUBSTRATE SURFACE in Japanese translation

• 基板表面
• 基質の表面
• 基材表面
• 基板面

Examples of using Substrate surface in English and their translations into Japanese

On LCD, it is necessary to align liquid crystal molecules uniformly in a specific direction. In the past, a method of rubbing the substrate surface with a cloth in a single direction, called rubbing orientation, was used.
液晶ディスプレイでは液晶分子を決まった方向に均一に並べる必要がありますが、従来は基板表面を布で一方向にこするラビング配向と呼ばれる方法が使われていました。

Additionally, the etching process results in a roughening of the surface in the etch trenches and thus in high differences in reflectivity between the substrate surface and the bottom of the trenches, which can lead to measurement problems.
さらに、エッチングプロセスは、エッチング溝の表面の粗面化をもたらし、したがって、基板表面と溝の底部との間の反射率の大きな差をもたらし、測定中に問題を引き起こす可能性がある。

In addition, the etching process leads to a roughening of the surface in the etching trenches and thus to high differences in the reflectivity between the substrate surface and the bottom of the trenches, which can lead to problems during measurement.
さらに、エッチングプロセスは、エッチング溝の表面の粗面化をもたらし、したがって、基板表面と溝の底部との間の反射率の大きな差をもたらし、測定中に問題を引き起こす可能性がある。

First, the molecular beam epitaxial profileIn the ultra-high vacuum environment, with a certain thermal energy of one or more molecules(atoms) beam jet to the crystal substrate, the substrate surface reaction processMolecules in the“flight” process almost no collision with….
まず、分子線エピタキシャルプロファイル超高真空環境では、1つまたは複数の分子（原子）の特定の熱エネルギーで結晶基板にビームを噴射し、基板表面反応過程で「飛翔」過程の分子とほとんど衝突しない…。

In practice, sufficient thermal stability means that the source chemical itself must not form growth-disturbing condensable phases on the substrates or leave harmful levels of impurities on the substrate surface through thermal decomposition.
実際には、十分な熱安定性とは、還元剤自体が、基板上に成長を阻害する凝縮性の相を形成してはならない、あるいは、熱分解によって基板表面上に有害な濃度の不純物を残してはならないという意味である。

Coating equipment production line: design, manufacture, installation, service First, the definition of painting: Painting refers to a process in which a coating is applied to a surface of a substrate(substrate surface) and dried to form a film.
コーティング装置製造ライン：設計、製造、設置、サービス最初に、塗装の定義：塗装とは、コーティングを基材の表面（基材表面）に塗布し、乾燥させてフィルムを形成するプロセスのことです。

At present, photoresist mask is formed on the flat sapphire substrate and ICP dry etching is used for PSS processing, and pattern size, shape design and accuracy of the mask, pattern aspect ratio(ratio between height and width), substrate surface uniformity and repeatability between the substrates are important for forming the shape.
PSSの加工は、現在平坦なサファイア基板上にフォトレジストマスクを形成し、ICPドライエッチングにより行われている。加工形状のkeyとなるのはパターンのサイズ、マスクの形状設計と精度、パターンのアスペクト比(縦と横幅の比)と基板面全体での均一性及び基板間の再現性である。

The difficulty of achieving highly uniform coating of such devices has become a key issue for the electronics device industry and the need has grown for a high-productivity system that can provide uniform resist coating of substrate surfaces with 3D structures.
そのため電子デバイス業界では、立体構造の基板表面への均一な塗布が可能な、生産性の高いレジスト塗布装置へのニーズが高まっています。

LiNbO3 crystals are the most commonly used material for pockel cells, Q-switches and phase modulators, waveguide substrates, surface acoustic wave(SAW) wafers, etc.
Linbo3結晶は、ポッケルスセル、qスイッチ、位相変調器、導波路基板、表面弾性波（のこぎり）ウェハなどに最も一般的に使用されている材料です。

Mold, Energy control on substrate surface.
モールド・基板の表面エネルギー制御。

Allows modification, etc. of substrate surface.
基材の表面の改質等が可能。

This unit can also be used for resin substrate surface processing.
樹脂基板の表面処理にも最適です。

The metal-coated substrate surface is usually selected for its antimicrobial properties.
金属で被覆された基材表面は、通常その抗微生物特性で選択される。

Cannot be used on the substrate surface under 6℃or above 40℃.
の℃は4の上の6℃or以下の基質の表面で使用することができません。

The chemical and H2O are sprayed evenly on the substrate surface by rotating the substrate..
基板を回転させることによって噴霧される薬液や純水が基板表面を均一に広がります。

Excellent etching for making roughness on GaP film surface, GaP substrate surface, incline, and side.
GaP膜の表面およびGaP基板の表面、斜面、側面を良好に粗面化します。

The pin hole free layer deposition can be evenly performed for each atomics on the substrate surface.
基板表面に1原子層ずつ均一でピンホールフリーのレイヤー成膜が可能です。

Toray's unique surface treatment technology enables dense and uniform immobilization of probes on the substrate surface to improve detection capability.
独自表面処理技術により基板表面にプローブを高密度かつ均一に固定化することができ、検出性能を向上させました。

The gas stream can be heated by the gas heater to help analytes vaporization or desorption from the substrate surface.
必要に応じてヒータによりガスを加熱することで試料の気化および物質表面からの熱脱着を促進します。

OxiMax is an ultrapure, transparent silicon oxide coating that has low internal stress and is highly adherent and micro-conformal to the substrate surface.
OxiMaxTM(オキシマックス)は、高純度で透明な酸化ケイ素コーティングで、内部応力が小さく、基材表面に対して密着性が高く、マイクロコンフォーマルな特性を備えています。