Examples of using Lithography in English and their translations into Korean
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Colloquial
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Ecclesiastic
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Ecclesiastic
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Programming
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Computer
Formally called the ASML PAS 5500/60, the stepper improves the level of lithography control and geometries Micralyne's high-tech customers require.
형식적으로 ASML 우선권 5500/60를 불렀습니다, 댄서는 석판인쇄술 통제의 수준을 향상하고 기하학 Micralyne의 하이테크 고객은 요구합니다.Coldset offset lithography on newsprint.
Coldset offset lithography on newsprint.Collapse of structures is one of the major problems that lithography down at the 10-nanometer level will face," says Karl Berggren, the Emanuel E.
구조물의 붕괴는 10 나노미터 수준의 리소그래피 다운 얼굴 것이 가장 큰 문제 중 하나이다"칼 Berggren, 엠마누엘 E.ProDATA™ V2.0 process window analysis software provides a systematic, robust approach to understanding and optimizing lithography processes across the fab.
ProDATA™ V2.1 공정 윈도우 및 분석 소프트웨어는 Fab 전반에 걸친 사진식각 공정 최적화 및 이해를 위한 체계적이고 견고한 접근법을 제공합니다.Today, EUV lithography technology including the light source is still under development;
현재 EUV 리소그래피 기술은 광원을 포함하여 개발 중에 있으며,RA(Reticle Analyzer): Reticle data analytics system for IC fabs supports applications such as automatic defect classification, lithography plane review and defect progression monitoring.
RA(레티클 분석기): IC Fab를 위한 레티클 데이터 분석 시스템으로써 자동 결함 분류, 사진식각 평면 리뷰 및 결함 변화 모니터링 등의 애필리케이션을 지원합니다.STMicroelectronics has been working for more than a decade with CEA-Leti on maskless lithography.
STMicroelectronics는 maskless 석판인쇄술에 CEA Leti와 가진 십년간 보다는 더 많은 것을 위해 작동하고 있습니다.Lithography is a method of printing originally based on the immiscibility of oil and water.
리소그래피는 원래 석유와 물의 비혼 화성에 기초하여 인쇄하는 방법입니다.VV: So far, our nano rings were made by electron beam lithography, which is a very precise but very expensive method.
VV: 지금까지, 우리의 nano 반지는 아주 정확하고 그러나 아주 비싼 방법인 전자빔 석판인쇄술에 의해 했습니다.Research groups have been working for years to accelerate the two-photon lithography process used to produce nanoscale 3-D structures.
연구 그룹은 나노 스케일 3D 구조를 생성하는 데 사용되는 2광자 리소그래피 프로세스를 가속화하기 위해 수년간 노력해 왔다.UV lithography, foil blocking.
UV 석판인쇄술, 포일 막기.This new line will be set up with EUV lithography equipment to overcome nano-level technology limitations.
이 새로운 라인은 나노 수준의 기술 한계를 극복하기 위해 EUV 리소그래피 장비로 설치될 것입니다.Extreme ultraviolet(EUV) photomasks are used for transferring circuitry patterns onto wafers with new lithography systems using high-energy, short-wavelength light sources.
극자외선(EUV) 포토마스크는 고에너지 단파장 광원을 이용하는 새로운 리소그래피 시스템으로 회로 패턴을 웨이퍼로 옮기는 데 사용됩니다.NAND memory has been approaching a lithography wall, meaning its transistors can't get much smaller.
NAND 메모리는 리토그래피의 벽에 근접해가고 있는데 이는 트랜지스터가 더는 작아질 수 없어졌음을 의미한다.The still young discipline of 3D laser lithography is applied in micro
D 레이저 석판인쇄술의 고요한 젊은 훈련은 마이크로와 nano photonics,With STMicroelectronics supporting the IMAGINE program, we are convinced we will succeed to make maskless lithography a viable solution.".
STMicroelectronics가 상상 프로그램을 지원하는 상태에서, 우리는 maskless 석판인쇄술에게 실행 가능한 해결책을 하기 위하여 우리가.".Most books, indeed all types of high-volume text, are now printed using offset lithography.
대부분의 책, 대용량 텍스트의 모든 유형은 현재 오프셋 리소그래피를 사용하여 인쇄됩니다.Edwards has you covered for both of these applications. EUV Lithography Pumping Solutions Multi-patterning techniques have their place, but the future will likely require the use of EUV lithography due to the extremely short wavelength of light EUV systems deliver.
EUV 리소그래피 펌핑 솔루션 다중 패턴화 기술마다 용도가 다르지만, 앞으로는 EUV 시스템에서 제공하는 빛의 극히 짧은 파장으로 인해 EUV 리소그래피를 사용해야 할 것 같습니다.Together with the largest manufacturer of lithography systems ASML and the optics specialist Zeiss, TRUMPF has a long and intensive cooperation on this process of EUV lithography and developed a globally unique CO2 laser system.
가장 큰 리소그래피 시스템 ASML 제조사와 광학장치 전문 기업 Zeiss와 함께 TRUMPF는 수년 간 각고로 협력하여 EUV Our full complement of MEMS-optimized systems includes wafer bonders; lithography products, such as mask aligners and resist processing systems like our new modular EVG150 platform;
MEMS 낙관한 시스템의 우리의 완전 조화는 웨이퍼 bonders를 포함합니다; 가면 동기기와 같은 석판인쇄술 제품은 우리의 새로운 모듈 EVG150 플래트홈 같이 처리 시스템을 저항합니다;
