SPUTTERING in English translation

• sputtering

Examples of using Sputtering in Finnish and their translations into English

Tässä työssä on ehdotettu käytettäväksi perustuvaa algoritmia"sputtering" on pisteiden joukko solussa Viikuna.
In this work it is proposed to use an algorithm based on"sputtering" of the set of points within the cell Fig.

yleensä kutsutaan kaikki kohdistaa sputtering tavoite.
usually called all target sputtering target.

Toisin kuin ohut vastukset materiaali voidaan soveltaa käyttäen erilaisia tekniikoita kuin sputtering vaikka tämä on yksi tekniikat.
Unlike thin film resistors, the material may be applied using different techniques than sputtering though this is one of the techniques.

tyhjiö pinnoite kaasun työympäristössä kuten magnetron sputtering ja kaaripurkaus pinnoite.
vacuum coating in the working gas environment such as magnetron sputtering and cathodic arc coating.

Tilastojen mukaan vuonna 2014 maailman suuri puhdas sputtering kohdemarkkinat joiden vuosimyynti on noin 8 miljardia 570 miljoonaa dollaria.
According to statistics, in 2014 the world high pure sputtering target market with annual sales of about $8 billion 570 million.

Magnetron sputtering pinnoite on uudenlainen fyysinen höyry laskeuman menetelmä verrattuna aiemmin haihtuminen pinnoite menetelmä,
Magnetron sputtering coating is a new type of physical vapor deposition method, compared with the earlier evaporation coating method,

määrittäminen pisteen sijainti, sputtering kerrosten.
determination of a point location, sputtering of layers.

nikkelin oksidi keraaminen kohde sputtering tavoite.
nickel oxide ceramic target sputtering target.

Magnetron sputtering pinnoite on uudenlainen fyysinen höyry laskeuman menetelmä,
Magnetron sputtering coating is a new type of physical vapor deposition method,

LOW-E lasin valmistukselle tyhjiö magnetron sputtering prosessi voi olla kertakäyttöisiä,
LOW-E glass manufacturing by Vacuum magnetron sputtering process can not be single-use,

olisi tyhjiö magnetron sputtering pinnoitettu lasi
should be vacuum magnetron sputtering coated glass

Uuden tyyppinen sputtering laitteet lähes kaikki käyttöä voimakkaiden magneettien kierre liikkeelle nopeuttaa electron ionisaatio argonin ympäri tavoite kohdentuminen vaikutus kohdistaa argon-ionit.
New type of sputtering equipment almost all use powerful magnets will spiral into motion to accelerate electron ionization of argon around the target, increase the impact probability of target with argon ions.

off-line tyhjiö sputtering menetelmä off-line menetelmä.
off-line vacuum sputtering method off-line method.

specialty Magnetron Sputtering teknologiaa keskittyi sen keskeisiä taitoja elokuva Pinnoitusmateriaalien, jalometallit, hienokemikaalit ja tietotekniikkaa.
a specialty Magnetron Sputtering Technology focused on its core skills in producing coating film materials, precious metals, fine chemicals and processing technology.

carbide voidaan valmistaa reaktiivinen sputtering.
carbide can be prepared by reactive sputtering.

Niin sanottu sputtering menetelmä on semiconductor
The so-called sputtering method is a semiconductor

Kanssa Habs"rikos sputtering kahdessa edellisessä peleissä,
With the Habs' offense sputtering in the two previous games,

Periaatteen magnetron sputtering: sputtering elektrodi(katodi)
The principle of magnetron sputtering: the sputtering electrode(cathode)

Magnetron sputtering periaate: sputtering tavoite(katodi) ja ortogonaalinen magneettikentän
Magnetron sputtering principle: in sputtering target(cathode)

Useimmat metalli pinnoite on tallettanut ratifioimiskirjansa DC sputtering vaikka ei johtavalla keraaminen materiaali käytetään RF AC sputtering..
Most of the metal coating is deposited by DC sputtering, while the non conductive ceramic material is used for RF AC sputtering..