ETSAR in English translation

• etch
• etches
• etching

Examples of using Etsar in Swedish and their translations into English

Dessa och andra kapacitetskännetecken har redan gjort DektakXT den nya branschen standard för att övervaka thin som filmar avlagring och som etsar system i sol-,
These and other performance characteristics have already made DektakXT the new industry standard for monitoring thin film deposition and etch systems in solar,

Inklusive i dessa beställer var första från Taiwan för Veecos Dimensionerar X-produkten som introduceras för avancerat, etsar i fjol metrologyapplikationer.
Included in these orders were the first from Taiwan for Veeco's Dimension X product, introduced last year for advanced etch metrology applications.

Tegalen 901ACS är det senast i en serie av capacitively förbundet diodplasma etsar system som produceras av Tegal,
The Tegal 901ACS is the latest in a series of diode plasma etch systems produced by Tegal,

Mindre tar prov eller lappar som används normalt för nanoscale etsar forskning kan fästas till ett bärarerån med en termiskt ledande sammansättning.
Smaller samples or pieces that are normally used for nanoscale etch research may be attached to a carrier wafer with a thermally conductive compound.

Kräver etsar klassar endast i spänna av 5-20µm/min,
Require etch rates only in the range of 5-20µm/min,

En grundläggande XeF2 etsar systemet består av en XeF2 källa förbindelse till en utvidgningskammare som anknytas i sin tur till apparatkammaren.
A basic XeF2 etch system consists of a XeF2 source connected to an expansion chamber which in turn is linked to the device chamber.

En ledare bearbetar in för etsar, avlagring, och tillväxt,
A leader in tools for etch, deposition and growth,

Ett enkelt, optimerat etsar recept gör adoptionen av diamanten mycket rättfram,” något att säga som ADTS högsta tekniskt kommenderar Dr.
A simple, optimized etch recipe makes the adoption of diamond very straightforward,” says ADT's chief technical officer Dr. John Carlisle.

Etsar En av de nyckel- utmaningarna för iscensätter matchar i dag kammare för att uppnå jämn kapacitet över den hela toolseten.
One of the key challenges for etch engineers today is matching chambers to achieve consistent performance across the entire toolset.

Tegalen 901ACS är det senast i en serie av capacitively förbundet diodplasma etsar system som produceras av Tegal,
The Tegal 901ACS is the latest in a series of capacitively coupled diode plasma etch systems produced by Tegal,

Det torrt etsar recept optimerades för att uppnå ett maximum etsar klassar av 650 nm/min genom att använda ADTS UNCD®-Rån.
The dry etch recipe was optimized to achieve a maximum etch rate of 650 nm/min using ADT's UNCD® Wafers.

Den Applicerade Tetra Reticlen Etsar systemet används av faktiskt varje avancerat maskerar shoppar i världen för utveckling och produktion för photomask 45nm.
The Applied Tetra Reticle Etch system is used by virtually every advanced mask shop in the world for 45nm photomask development and production.

Tegals DRIE 3200 samla i en klunga bearbetar systemet är etttäthet plasma etsar bearbetar att presentera ett inductively kopplat ihop plasma etsar reaktorn och magnetisk plasmafångenskap.
Tegal's DRIE 3200 cluster tool system is a high-density plasma etch tool featuring an inductively coupled plasma etch reactor and magnetic plasma confinement.

Krav för en bra stämpel etsar är lodlinjen
Requirements for a good stamp etch are vertical

Detta låter för bättre kontrollerar av etsar processaa kapacitet över rånet som ökar silikonerna DRIE etsar böjlighet som behövs för några avancerade applikationer.
This allows for better control of etch process performance across the wafer which boosts the silicon DRIE etch flexibility needed for some advanced applications.

I den processaa cykliska Boschen var den lämpligaste parametern som kontrollerar den strukturella tre-dimensionalityen med bra reproducibility i anslutning med slutsumman numrerar av etsar cyklar.
In the cyclic Bosch process was the most convenient parameter to control the structural three-dimensionality with good reproducibility in association with the total number of etch cycles.

Dessa krav kan mötas till och med bruket av en baserad HBr/BCl3 etsar processaa på dämpar-- kicktemperaturer(120-180°C).
These requirements can be met through the use of an HBr/BCl3 based etch process at moderate to high temperatures(120-180°C).

visar vår fortsatte förpliktelse till att ge photomaskkunder med värld-klassificerar etsar teknologi.”.
demonstrates our continued commitment to providing photomask customers with world-class etch technology.".

i utvecklingen av 450mm etsar specifikt bearbetar.
specifically in the development of 450mm etch tools.

Å andra sidan på en för låg temperatur InClx beständigt är resultera i långsamt etsar klassar, låg selectivity och ytbehandlar roughness.
On the other hand, at too low a temperature InClx is nonvolatile resulting in slow etch rates, low selectivity and surface roughness.