ウエハ - 英語 への翻訳

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日本語 での ウエハ の使用例とその 英語 への翻訳

Ｄ）ウエハテスターは、典型的には、ＡＣＣ１２がその時間がかかる計算を終了することを待つ時間を無駄にすることを望まない。
A wafer tester typically does not want to waste time waiting for the ACC 12 to finish its time consuming calculations.

ボッシュ取締役会会長のフォルクマル・デナー氏は、「新しいウエハ製造工場は、創業以来130年を超えるボッシュの歴史において最大の単独投資案件です。
Bosch chairman Volkmar Denner says:“The new manufacturing facility for semiconductors is the largest single investment in the more-than-130-year history of Bosch.

この際、ウエハの電子回路が形成されている面を粘着面側にして密着させる。
Hence, the face on which the electronic circuits of the wafer are to be made are adhering to the sheet.

ウエハの回路が形成された面は非常にデリケートで、傷がつけばその回路は破壊されてしまう。
The part of the wafer containing the circuit is very delicate, and even a small injury would destroy the circuit.

DCP-100シリーズのプローブホルダは、高度にウエハプロセス及びデバイスの特性、ならびに信頼性試験に必要な測定精度を実現します。
The DCP-100 series probe holder delivers the measurement accuracy needed for advanced on-wafer process and device characterization, as well as reliability testing.

Φ300mm等のウエハサイズや500mm角相当等のパネルサイズ対応。
Support a wafer size with φ300mm and others, and a panel size equivalent to□500mm and others.

レビトロニクスポンプ(黒線)は、他の最新式ポンプよりも発生するパーティクルが著しく少ないので、パーティクルによるウエハ欠陥の低減に役立ちます。
LEVITRONIX pump(black line) create significant fewer particles than other state-of-the art pumps and therefore will help to decrease particle defect on the wafer.

堅牢な設計が継続運転を確保してメンテナンスを軽減する一方で、ウエハスタイル設計によりパイプラインの重量が削減されます。
The robust design ensures consistent operation and reduced maintenance, while the wafer style design reduces weight in the pipeline.

X26mmのフィールドサイズで2つのスキャナフィールドに露出し、ウエハ1枚当たりの露出ステップ数を削減。
Field size of 68 by 26mm exposes two scanner fields, reducing number of exposure steps per wafer.

DF-G2によるウエハ中心検出|バナー半導体産業ではウエハの位置検出は非常に重要です。
Wafer Center Detection with DF-G2| Banner In the semiconductor industry, detecting the position of a wafer is vital.

シュトゥットガルト／ドレスデン（ドイツ）-ドイツ国内で積極的な設備投資を続けるボッシュは、ドレスデンに新しいウエハ製造工場を建設します。
Stuttgart and Dresden, Germany- Continuing its course of investing heavily in Germany, Bosch is to build a wafer fab in Dresden.

RA120-C01|ローツェ株式会社概要非接触光学検出方式で、スピンドル上のウエハの中心位置とノッチ位置を検出します。
RA120-C01| RORZE Product Features The non-contact optical detection method detects the center and notch position of the wafer on the spindle.

品質の安定」を会社哲学とし、SiC原料から結晶成長～ウエハ加工～検査までのウエハ一貫生産体制を築き、ISO9001を1999年に取得しております。
With the company philosophy"stable quality", they have built a wafer integrated production system, from SiC raw materials, to crystal growth, wafer processing, and inspection. SiCrystal acquired the ISO 9001 certification in 1999.

コンタクトインテリジェンスにより、CM300xiは自動的に適応および調整して、幅広いウエハ、材料、およびデバイスに対して最も正確なプローブとパッドのアライメントを実現できます。
Contact Intelligence enables the CM300xi to automatically adapt and adjust to provide the most accurate probe-to-pad alignment for a broad array of wafers, materials and devices.

半導体の前半材料(シリコンウエハ、研磨材等)から製造にかかわるプロセス材料およびPKG実装に使用される後半材料(基板、封止材)などを取り揃えております。
Semiconductor first half materials(silicon wafer, polish, etc.) as well as process materials involved in the production and latter half materials(substrate and seal material) used in PKG implementation are lined up.

しかし、ウエハが容器にパッケージングされる前に、それらはウエハに傷、斑点、および介在物が存在するかどうかを検査する必要がある。
But before the wafers are packaged into containers, they still need to inspect the wafers to see if there are stratches, spots, and inclusions.

モビリティとIoTアプリケーションの増加に支えられて半導体需要が伸びる中、ボッシュはドレスデンにウエハ製造工場を建設中で、2021年までに10億ユーロを超える投資を予定しています。
In response to the increasing number of mobility and IoT applications for semiconductors, Bosch is building a wafer fab in Dresden and intends to invest more than a billion euros in the new facility by 2021.

高純度過酸化水素電子、半導体デバイスおよびシリコンウエハ製造に用いる高純度過酸化水素は、同一工場内で工業用過酸化水素から徹底した品質管理体制で一貫生産して安定供給いたします。
High Purity Hydrogen Peroxide We produce high purity hydrogen peroxide used for producing electronic or semiconductor devices and silicon wafers from industrial hydrogen peroxide by the integrated system at our same factory.

半導体の製造工程において必要不可欠なフォトマスクは、半導体の微細で複雑な回路パターンを半導体ウエハに転写する際の原版となるもので、マスクブランクスはフォトマスク製造用の材料となります。
Critical in the semiconductor fabrication process, photomasks are the master plates used to transfer a semiconductor's intricate and complex circuit pattern onto a semiconductor wafer, and mask blanks are the raw material used for photomask manufacturing.

電子回路が作られたウエハの扱いの困難さパソコンや携帯電話などの中にはICやLSIと呼ばれる集積回路が使われている。
The difficulty of handling wafers during the installation of electronic circuits The integrated circuit, called IC or LSI, is used in personal computers and mobile telephones.