Examples of using Sputtering in Telugu and their translations into English
{-}
-
Ecclesiastic
-
Colloquial
-
Computer
మాగ్నేట్రాన్ sputtering పూత లక్ష్యం ALT2 017019C.
Zr Cr Si మిశ్రమం sputtering టార్గెట్.
Cr Alloy Sputtering Target.క్రోమియం sputtering టార్గెట్ 99 .95%.
Chromium Sputtering Target 99.95%.మాగ్నేట్రాన్ sputtering పూత లక్ష్యం నికెల్ sput….
Magnetron sputtering coating target Nickel sput….NbOx లక్ష్యం మాగ్నేట్రాన్ sputtering పూత లక్ష్యం.
NbOx target magnetron sputtering coating target.డ్రాయింగ్ Si రోటరీ మెటల్ sputtering టార్గెట్ అనుకూలీకరించిన.
Customized by drawing Si rotary metal sputtering target.మాగ్నేట్రాన్ sputtering పూత లక్ష్యం టాన్టలం sp….
Magnetron sputtering coating target tantalum sp….TiN DLC పూత ధాతు మాగ్నేట్రాన్ sputtering కోటు….
TiN DLC coating alloy magnetron sputtering coat….వాక్యూమ్ కరిగే ప్రక్రియ HIP sputtering ఆర్క్ chrom….
Vacuum melting process HIP sputtering arc chrom….అధిక పుర్తి HIP స్వచ్ఛమైన క్రోమియం sputtering గాయమైంది….
High purty HIP rolled pure chromium sputtering….AlNd 97: 3wt% ధాతు మాగ్నేట్రాన్ sputtering పూత….
AlNd 97:3wt% alloy magnetron sputtering coating….తరువాత: వాక్యూమ్ ద్రవీభవన ప్రక్రియ& HIP సమతల క్రోమియం మెటల్ sputtering లక్ష్యం.
Next: Vacuum melting process&HIP planar Chromium metal sputtering target.తాపన పరిశ్రమ 99. 999% sputtering తారు….
Heating industry 99.999% sputtering tar….తరువాత: అధిక స్వచ్ఛత 99. 999% సిలికాన్ ఆక్సైడ్ sputtering లక్ష్యం.
Next: high purity 99.999% Silicon oxide sputtering target.తరువాత: ఎన్ ఐ 97: 3wt% నికెల్ వెనేడియం ధాతు sputtering లక్ష్యం.
Next: NiV 97:3wt% Nickel vanadium alloy sputtering target.మునుపటి: 30: 70at% అల్యూమినియం క్రోమియం మిశ్రమం మాగ్నేట్రాన్ sputtering పూత లక్ష్యం.
Previous: 30:70at% Aluminium Chromium alloy magnetron sputtering coating target.టార్గెట్ తయారీదారు sputtering- Alluter.
Sputtering Target Manufacturer- Alluter.బిలీవ్ ALLUTER sputtering లక్ష్యం లక్ష్యాన్ని సరఫరాదారు sputtering మీ మొదటి ఎంపిక ఉంటుంది!
Believe ALLUTER sputtering target will be your first choice of sputtering target supplier!డ్రాయింగ్ Si రోటరీ మెటల్ sputtering టార్గెట్ అనుకూలీకరించిన- చైనా Alluter టెక్నాలజీ (షెన్జెన్).
Customized by drawing Si rotary metal sputtering target- China Alluter Technology（Shenzhen.Sputtering టార్గెట్ 99 .95% క్రోమియం.
Sputtering Target 99.95% Chromium.
