Examples of using Sputtering in English and their translations into Telugu
{-}
-
Ecclesiastic
-
Colloquial
-
Computer
How sputtering target works.
Metal Sputtering Target.
మెటల్ sputtering టార్గెట్.Cr Alloy Sputtering Target.
Zr Cr Si మిశ్రమం sputtering టార్గెట్.Chromium Cr Sputtering Target.
క్రోమియం Cr sputtering టార్గెట్.Magnetron sputtering coating target ALT2017019C.
మాగ్నేట్రాన్ sputtering పూత లక్ష్యం ALT2 017019C.Si Metal Sputtering Target.
Si మెటల్ sputtering టార్గెట్.Chromium Sputtering Target 99.95%.
క్రోమియం sputtering టార్గెట్ 99 .95%.Magnetron sputtering coating target Nickel sput….
మాగ్నేట్రాన్ sputtering పూత లక్ష్యం నికెల్ sput….NbOx target magnetron sputtering coating target.
NbOx లక్ష్యం మాగ్నేట్రాన్ sputtering పూత లక్ష్యం.TiN DLC coating alloy magnetron sputtering coat….
TiN DLC పూత ధాతు మాగ్నేట్రాన్ sputtering కోటు….AlNd 97:3wt% alloy magnetron sputtering coating….
AlNd 97: 3wt% ధాతు మాగ్నేట్రాన్ sputtering పూత….Magnetron sputtering coating target tantalum sp….
మాగ్నేట్రాన్ sputtering పూత లక్ష్యం టాన్టలం sp….Vacuum melting process HIP sputtering arc chrom….
వాక్యూమ్ కరిగే ప్రక్రియ HIP sputtering ఆర్క్ chrom….Customized by drawing Si rotary metal sputtering target.
డ్రాయింగ్ Si రోటరీ మెటల్ sputtering టార్గెట్ అనుకూలీకరించిన.Heating industry 99.999% sputtering tar….
తాపన పరిశ్రమ 99. 999% sputtering తారు….High purty HIP rolled pure chromium sputtering….
అధిక పుర్తి HIP స్వచ్ఛమైన క్రోమియం sputtering గాయమైంది….Next: NiV 97:3wt% Nickel vanadium alloy sputtering target.
తరువాత: ఎన్ ఐ 97: 3wt% నికెల్ వెనేడియం ధాతు sputtering లక్ష్యం.Next: Vacuum melting process&HIP planar Chromium metal sputtering target.
తరువాత: వాక్యూమ్ ద్రవీభవన ప్రక్రియ& HIP సమతల క్రోమియం మెటల్ sputtering లక్ష్యం.Next: high purity 99.999% Silicon oxide sputtering target.
తరువాత: అధిక స్వచ్ఛత 99. 999% సిలికాన్ ఆక్సైడ్ sputtering లక్ష్యం.Previous: 30:70at% Aluminium Chromium alloy magnetron sputtering coating target.
మునుపటి: 30: 70at% అల్యూమినియం క్రోమియం మిశ్రమం మాగ్నేట్రాన్ sputtering పూత లక్ష్యం.
