Examples of using Sputtering in English and their translations into Thai
{-}
-
Colloquial
-
Ecclesiastic
-
Ecclesiastic
-
Computer
Aluminum Chromium Sputtering Target.
อลูมิเนียมโครเมียมSputteringเป้าหมายNbox Rotating Sputtering Target.
NboxหมุนSputteringเป้าหมายNext: Vacuum melting process&HIP planar Chromium metal sputtering target.
ต่อไป: กระบวนการหลอมเครื่องดูดฝุ่นและHIPระนาบโครเมียมเป้าหมายโลหะสปัตเตอร์Si Metal Sputtering Target.
ศรีโลหะSputteringเป้าหมายQualitatively insulate the container house can use the sputtering insulation.
คุณภาพป้องกันบ้านภาชนะที่สามารถใช้ฉนวนกันความร้อนสปัตเตอร์Is a professional manufacturer and supplier of tantalum target(tantalum sputtering targets) in China.
เป็นผู้ผลิตและผู้จัดจำหน่ายของเป้าหมายแทนทาลัมsputtering. เป้าหมายแทนทาลัม ในประเทศจีนOptical communication industry Titanium Oxide sputtering target.
อุตสาหกรรมการสื่อสารOpticalไทเทเนียมออกไซด์เป้าหมายสปัตเตอร์Cylinder Arc(steered circular arc for option)+MF Sputtering Cathode.
กระบอกอาร์คอาร์คแบบวงกลมนำทางสำหรับอุปกรณ์เสริม + MFSputteringCathodeNext: high purity 99.999% Silicon oxide sputtering target.
ต่อไป: มีความบริสุทธิ์สูง99.999% เป้าหมายซิลิคอนออกไซด์สปัตเตอร์Product Name: molybdenum rotatable sputtering target.
ชื่อสินค้าโมลิบดีนัมrotorablesputteringtargetCustomized by drawing Si rotary metal sputtering target.
ที่กำหนดเองโดยการวาดเป้าหมายสปัตเตอร์โลหะหมุนศรีCylinder Sputtering Cathodes.
แคโทดแบบสปัตเตอร์ริ่งHot sale 99.95% molybdenum sputtering target.
Used for making molybdenum sputtering target.
Next: Hot sale 99.95% molybdenum sputtering target.
ถัดไป: ขายเป้าหมายการสปัตเตอร์โมลิบดีนัม9995Previous: Hot sale 99.95% molybdenum sputtering target.
คู่ของ: ขายเป้าหมายการสปัตเตอร์โมลิบดีนัม9995Tantalum targets, also known as tantalum sputtering targets, provide consistent and reproducible process performance with high thickness uniformity….
เป้าหมายแทนทาลัมยังเป็นที่รู้จักsputteringเป้าหมายแทนทาลัมให้ประสิทธิภาพของกระบวนการที่สอดคล้องกันและสามารถทำซ้ำที่มีความหนาสม่ำเสมอสูงFollowing the client's need, we supply also a large range of sputtering target in various materials and dimensions, like Titanium, Zirconium, Niobium, Molybdenum, Tantalum.
ตามความต้องการของลูกค้าเราใส่ยังพ่นเป้าหมายในวัสดุต่างและมิติไทเทเนียมเซอร์โคเนียมไนโอเบียมโมลิบดีนัมแทนทาลัมที่หลากหลายThe DPC-RTAS1215+ Sputtering system is the upgraded version of the original ASC1215 model, the newest system has several advantages.
DPC-RTAS1215Sputteringsystemเป็นรุ่นอัพเกรดของรุ่นASC1215ดั้งเดิมระบบใหม่ล่าสุดมีข้อดีหลายประการIt produced by magnetically enhanced sputtering of metal or metal compound coating under vacuum condition on different glass substrates.
ม่านกำแพงผลิตโดยการสปัตเตอร์ที่เพิ่มขึ้นจากสนามแม่เหล็กหรือโลหะผสมภายใต้สภาพสูญญากาศบนพื้นผิวแก้วที่แตกต่างกัน
