SPUTTERING in Greek translation

• sputtering
• επιμετάλλωση
• διασκορπισμού
• ψεκασμού
• επιμετάλλωσης
• επιδιωκόμενοι

Examples of using Sputtering in English and their translations into Greek

TiN DLC coating alloy magnetron sputtering coat….
TiN DLC κράματα επίχρισης magnetron sputtering παλτό….

Solar PV en Heating yndustry 99,999% sputtering Tar….
Solar PV και της βιομηχανίας Θέρμανση 99,999% sputtering πίσσα….

Next: 304 SS/316L stainless steel magnetron sputtering coating target.
Επόμενο:/ 316L στόχος επικάλυψης magnetron sputtering από ανοξείδωτο χάλυβα 304 SS.

Vacuum smelting process&HIP sputtering tar….
Κενό διαδικασία τήξης& HIP sputtering πίσσα….

Molybdenum Round Sputtering Targets.
Μολυβδαίνιο στρογγυλή Sputtering στόχους.

By sputtering, have wide range of potential applications.
Με ψεκασμό, έχουν ευρύ φάσμα πιθανών εφαρμογών.

Super sputtering target(single heavy reach to 120kg)
Ο έξοχος ψεκάζοντας στόχος(ενιαία βαριά προσιτότητα σε 120kg)

Magnetron Sputtering Coating Machine.
Magnetron ψεκάζοντας μηχανή επιστρώματος.

Molybdenum tube targets are mainly used in plasma sputtering industry.
Οι στόχοι σωλήνων μολυβδαίνιου χρησιμοποιούνται κυρίως στην ψεκάζοντας βιομηχανία πλάσματος.

the main vacuum magnetron sputtering, vacuum evaporation,
το κύριο κενό magnetron sputtering, εξάτμιση σε κενό,

Good quality tantalum sputtering target is widely used in industrial,
Καλή ποιότητα στόχου τανταλίου επιμετάλλωση χρησιμοποιείται ευρέως στη βιομηχανική, που χρησιμοποιείται κυρίως

So the feature of 2017 Wholesale prices Niobium sputtering target is high temperature resistance.
Έτσι ώστε η λειτουργία του το 2017 Οι τιμές χονδρικής νιοβίου sputtering στόχος είναι αντοχή σε υψηλές θερμοκρασίες.

Good quality tantalum sputtering target belongs to refractory metals,
Καλής ποιότητας στόχος διασκορπισμού ταντάλι ανήκει σε πυρίμαχα μέταλλα

Hot sale niobium sputtering target is widely used in industrial,
Ζεστό πώληση στόχος νιόβιο επιμετάλλωση χρησιμοποιείται ευρέως στη βιομηχανική, που χρησιμοποιείται κυρίως

including sputtering, evaporation, ion implantation
συμπεριλαμβανομένων ψεκασμού, εξάτμιση, Εμφύτευση ιόντων

Titanium Alloy sputtering targets can be used for semiconducting films,
Οι στόχοι διασκορπισμού κράματος τιτανίου μπορούν να χρησιμοποιηθούν για ημιαγώγιμες μεμβράνες,

has gradually been replaced by vacuum sputtering.
έχει σταδιακά αντικατασταθεί από κενό επιμετάλλωση.

Its sources include outgassing and sputtering, the release of atoms from the bombardment of lunar soil by solar wind ions.
Πηγές του περιλαμβάνουν outgassing και ψεκασμού, την απελευθέρωση των ατόμων από το βομβαρδισμό του σεληνιακού εδάφους από ιόντα του ηλιακού ανέμου.

Difficulties combined with the elevated temperature in case of CVD can be eliminated by PVD(sputtering).
Δυσκολίες σε συνδυασμό με την αυξημένη θερμοκρασία στην περίπτωση της CVD μπορούν να εξαλειφθούν με PVD(επιμετάλλωση).

Hot sale niobium sputtering target belongs to refractory metals, and Hot sale niobium sputtering target has the high melting point.
Hot στόχο επιμετάλλωσης πώληση νιόβιο ανήκει σε πυρίμαχα μέταλλα, και Ζεστό πώληση νιοβίου στόχο επιμετάλλωσης h, το υψηλό σημείο τήξης.