Examples of using Sputtering in English and their translations into Russian
{-}
-
Official
-
Colloquial
Technology of ion-beam sputtering consists in bombardment of given composition target with beam of ions with energy up to 5000 eV, and subsequent deposition of sputtered material on the substrate.
Технология ионно- лучевого распыления заключается в бомбардировке мишени заданного состава пучком ионов с энергией до 5000 эВ с последующим осаждением распыленного материала на подложку.Production of vacuum sputtering equipment for the flat panel display industry is one of the Izovac's strong points.
Производство вакуумного напылительного оборудования для дисплейной промышленности является одной из сильных сторон компании Изовак.Laboratory of vacuum technologies commercializes high-productive machines NIKA for magnetron sputtering of crockery, cutlery, accessories.
Лаборатория вакуумных технологий выпускает серию высокопроизводительных магнетронных установок НИКА для напыления посуды, столовых приборов, фурнитуры.As the voltage is increased over 150 V, the substrate sputtering occurs and the etching rate goes as high as 8 mkm/h at the substrate voltage of 1000 V.
При увеличении напряжения выше 150 В наблюдается распыление подложки, при этом скорость травления достигает 8 мкм/ ч при напряжении на подложке в 1000 В.Technology of ion-beam sputtering IBSS is designed for deposition of precision multi-layer coatings having high density and low roughness.
Технология ионно- лучевого распыления IBSS предназначена для нанесения прецизионных многослойных покрытий с высокой плотностью и низкой шероховатостью.Additionally, by combining the pumping and sputtering compartment, the LEYBOLD OPTICS GLC series H glass vacuum coater has a significantly reduced footprint.
К тому же, благодаря совмещению насосного и напылительного отсеков, установки серии LEYBOLD OPTICS GLC H занимают минимальную площадь.Dimensions of the holder allow to load for treatment up to 8 substrates measuring 60x48mm for two-side sputtering.
Размеры держателя позволяют загружать для обработки до 23 подложек размером 60х48 мм для двустороннего напыления.At that location no or only very little sputtering occurs and therefore once implanted atoms are not released again and remain in the solid.
Там, как правило, не происходит распыление или Sputtering materials in vacuum by thermal evaporation- the basic technology for a wide range of applications.
Напыление материалов в вакууме методом термического испарения- основная технология для широкого спектра применений.Run your popping and sputtering beast into top gear as you lurch forward down the street
Запустите поппинг и распыления зверя в высшей передаче, как вы крениться вперед по улицеmetallization and final sputtering reduce risks of staining with dust,
металлизации и завершающего напыления снижает риски загрязнения пылью,One of the promising areas of" Izovac" business directions is the production of vacuum sputtering equipment for the microelectronics industry.
Одним из перспективных направлений ООО" Изовак" является производство вакуумного напылительного оборудования для микроэлектроники.The product can also be covered by sputtering, which includes a silver
Sputtering materials in vacuum by thermal evaporation is the basic technology for a wide range of applications.
Напыление материалов в вакууме методом термического испарения- основная технология для широкого спектра применений.known as magnetron sputtering, is a combination of evaporation process and sputtering cathode sputtering.
известен как магнетронное распыление и представляет собой сочетание процесса испарения и распыления катодное распыление.Series INVISIO-M can operate as part of common sputtering technological process control system and allows to stop the process after rated parameters of coating spectrum are achieved.
Серия Invisio M может работать в составе общей системы управления технологическим процессом напыления и позволяет останавливать процесс при достижении заданных параметров спектра покрытия.The metal atoms are produced due to ion sputtering of a target placed at the bottom of the hollow cathode inside the source.
Атомы металла образуются при распылении ионами мишени на дне полого катода внутри источника.load lock systems, sputtering and evaporation, the Bühler Leybold Optics portfolio includes cluster systems that offer customized and flexible solutions.
загрузочный шлюз, напыление и испарение- в портфолио Bühler Leybold Optics представлены модульными системами, адаптируемыми для любых производственных задач.microbial samples obtained by means of traditional specimen preparation with dehydration and sputtering a gold-platinum coating.
микробные препараты, полученные при помощи традиционной пробоподготовки с обезвоживанием и напылением слоя золота- платины.For sputtering of targets of pure boron, as well as other targets of light materials, it is possible to apply the ion beam sputtering technology.
Для распыления мишеней из чистого бора, как и из любых других мишеней из легких материалов, можно применить технологию ионно- пучкового распыления.
