英語 での Lithography の使用例とその 日本語 への翻訳
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Colloquial
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Computer
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Programming
Valerie creates prints using mainly lithography and linocut, and she often embellishes her work with embroidery.
The EUV light source wavelength is approximately 15 times shorter than that of today's deep ultraviolet lithography, making possible continued feature scaling.
EUV光源の波長は現在の深紫外線リソグラフィーの波長の約15分の1で、さらなる微細化を進めることができます。Ultratech's family of lithography steppers are designed to specifically meet the unique needs of Advanced Packaging applications.
Ultratechのリソグラフィーステッパー製品ファミリーは、高度なパッケージングアプリケーションの独自のニーズに特に対応するよう設計されています。EB lithography has extensively studied in the semiconductor industry, exploring the replacement of optical lithography. .
EBリソグラフィーは、従来の光リソグラフィーに代わる技術として、半導体業界で研究が進められています。WACOM UV lamps are used in exposure equipments for lithography process on semiconductor devices, FPDs, PWBs and more.
当社のUVランプは、半導体デバイス・フラットパネルディスプレイ・プリント配線板などのフォトリソグラフィー工程において、露光装置のUV光源として使用されます。Simulation tools are approximations of the real world and are essential for research, development, and production related to lithography.
シミュレーション・ツールは実世界の近似で、リソグラフィの研究、開発、そして製造に欠かすことのできないものです。Nanoimprint using lithography and Ni electroforming technology Providing molds for imprinting, polishing, dicing, laser processing are also available.
リソグラフィーとNi電鋳の技術を利用してナノインプリント用のモールド提供や、研磨加工、ダイシング、レーザー加工も承っております。A technique called the thin film lithography process allowed engineers to shrink the reader and writer.
薄膜リソグラフィーと呼ばれる技術は技術者による読み書き磁気ヘッドの小型化を可能にしました。ITRS Road map:" Optical lithography does not foresee a smaller than 10nm.".
ITRSLoadmap：「光リソは10nm以降を見通せない。」。One object of the present invention is to address any or all of the above-described challenges of immersion lithography technology.
本発明の１つの目的は、液浸リソグラフィー技術の上記チャレンジのいくつかにまたは全てに対処することである。Very attractive lithography,"La Noce", by Raya Sorkine, signed on the lower right and inscribed E.A. on the lower left.
RayaSorkineによる非常に魅力的なリソグラフィー「LaNoce」は、右下に署名され、左下にEAを刻印しました。EUV Drive Laser| TRUMPF EUV lithography wins the race for the microchip production method of the future.
EUVDriveLaser|TRUMPFEUVリソグラフィは将来のマイクロチップの製造方法として、先頭を切っています。Lithography is a method of printing originally based on the immiscibility of oil and water.
リソグラフィ（Lithography）は、もともと油と水の非混和性に基づいて印刷する方法です。Lithography can be used to print text or artwork onto paper or other suitable material.
リソグラフィは、テキストまたはアートワークを紙または他の適切な材料に印刷するために使用することができる。Most books, indeed all types of high-volume text, are now printed using offset lithography.
ほとんどの本、実際にはあらゆる種類の大量のテキストは、現在オフセットリソグラフィを使用して印刷されています。In 2010 32nm process Core 2(Westmere), and adopted liquid immersion lithography.
年32nmプロセスのCore2(Westmere)で、液浸リソグラフィを採用。He entered material development laboratory, Hoya Corporation. He developed a thin SiC film deposition technology for implementing the x-ray lithography.
年10月HOYA株式会社材料研究所勤務（X線リソグラフィー技術、SiCエピタキシャル成長技術開発）。RMI is based on near-field continuous optical lithography, which is implemented using cylindrical phase masks.
RMLは、円筒形のロールマスクを使った近接場光リソグラフィー応用に基づいています。Optical Projection Lithography Masks are used in semiconductor processing, as they are the base patterning device of the IC chip.
ICチップの基礎的なパターニング装置であるため、基本デバイスである半導体加工には光投影リソグラフィーのマスクが使用される。The MEB12 program participants include the world's only commercial MEBDW lithography equipment manufacturer, Mapper Lithography B. V.
MEB12への参加企業には、MEBDWリソグラフィー装置を世界で唯一製造するオランダ・。
