英語 での Sputtering targets の使用例とその 日本語 への翻訳
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Only extremely pure sputtering targets can be used as input materials for the fine conductor paths.
Thin film, Precision cleaning, MEMS, Sputtering targets etc.｜KYODO INT'L INC.
薄膜加工、精密洗浄、MEMS、スパッタリングターゲット等｜協同インターナショナル。Our bonding team in Japan uses a special process to treat the surfaces of Plansee sputtering targets.
この日本のボンディングチームは、特殊なプロセスを用いてプランゼーのスパッタリングターゲットの表面を処理します。Our sputtering targets are prepared with high purity metals and compounds materials.
弊社のスパッタリングターゲットは高純度金属及びその化合物を原料として、溶解・圧延・鋳造・粉末冶金・。Sputtering targets available in wide range of materials including pure metal and alloy applied in coating fields.
スパッタリングターゲットの純粋な金属および合金コーティング分野で適用を含む材料の広い範囲で利用できます。HOME» Products» Sputtering Targets» Ag and Ag alloy sputtering target» The world's largest seamless Ag alloy sputtering target. .
HOME»製品紹介»スパッタリング・ターゲット»AgおよびAg合金ターゲット»世界最大級のAg合金ターゲット。HOME» Products» Sputtering Targets» Ag and Ag alloy sputtering target» Cylindrical Ag alloy sputtering target. .
HOME»製品紹介»スパッタリング・ターゲット»AgおよびAg合金ターゲット»円筒型Ag合金ターゲット。Sputtering targets available in wide range of materials including pure metal and.
スパッタリングターゲットの純粋な金属および合金コーティング分野で適用を含む材料の広い範囲で利用できます。Sputtering Targets For many materials and all shape: mainly plannar target: .
多くの材料および図形のすべてのターゲットのスパッタ法:主にplannarターゲット。Our POCO graphite sputtering targets can be used to deposit a lubricious uniform Carbon thin film.
POCOグラファイト製のスパッタリングターゲットを使用すると、均一で滑らかなカーボン薄膜を形成できます。HOME» Products» Sputtering Targets» Ag and Ag alloy sputtering target» Ag alloy film with excellent durability to hold the high reflectivity.
HOME»製品紹介»スパッタリング・ターゲット»AgおよびAg合金ターゲット»高耐久性・高反射率を有するAg合金。Learn how our isotropic POCO graphite sputtering targets can deposit your film uniformly and increase the lifetime of your product.
等方性のPOCOグラファイトスパッタリングターゲットを使用することで、均一な膜形成と製品寿命を延ばすことが可能になります。Offers interconnect solutions and IC packaging specializing in on-chip semiconductor interconnects, including spin-on dielectrics and sputtering targets.
スピンオン誘電体およびスパッタリングターゲットを含むオンチップ半導体相互接続に特化したインターコネクト・ソリューションやICパッケージを提供しています。Which means that Plansee and their sputtering targets are ready for ultra-high definition technology.
そしてそれはプランゼーとスパッタリングターゲットが超高解像度テクノロジーの準備が整っていることを意味しています。We offer MoNa sputtering targets with high purity and a uniform and fine grained microstructure.
プランゼーのMoNaスパッタターゲットは、高純度で、均質で、粒子の細かい微細構造を持っています。HOME» Products» Sputtering Targets» Ag and Ag alloy sputtering target» Recycle used targets in pure Ag.
HOME»製品紹介»スパッタリング・ターゲット»AgおよびAg合金ターゲット»使用済ターゲット／銀のリサイクル。Sputtering Targets/ Tablets for Vapor DepositionTargets for Others Overview In addition to the targets described until now, SMM manufactures high-purity targets used in thin film solar cells and semiconductors that make use of solar energy.
スパッタリングターゲット・蒸着用タブレットその他ターゲット概要住友金属鉱山では、これまでにご紹介したターゲットの他に、太陽エネルギーを利用した薄膜太陽電池、半導体用に使用される高純度ターゲットを製造しております。High Quality Sputtering Targets Supplier in China we are china sputtering targets manufacture, mainly supply for thin film deposition, cathode sputtering, and pvd coating. 1.
我々は中国のスパッタリングターゲット、スパッタリングターゲット製造、薄膜形成、陰極スパッタリングにより、pvdコーティングの供給主に。1.スパッタリング対象製品。The development of W-Ti sputtering targets will contribute to increased productivity in the semiconductor device mounting process while enabling the support of the semiconductor fine pitch process.
今般のW-Tiスパッタリングターゲットの開発は、こうした半導体ファインピッチプロセスへの対応を可能にすると同時に、半導体素子実装工程の生産効率の向上にも寄与してまいります。MoNa sputtering targets for more efficiency: With our sputtering targets made of molybdenum-sodium(MoNa), the release of sodium in the sputtered layer can be controlled reliably.
効率の高いMoNaスパッタターゲット:プランゼーのモリブデン-ナトリウム(MoNa)製スパッタターゲットを使うと、スパッタ層におけるナトリウムの放出を確実に制御することができます。
