窒化 - 英語 への翻訳

• nitride
• nitriding
• nitridation
• nitrides
• be nitrided

日本語 での 窒化 の使用例とその 英語 への翻訳

Sulphamic酸は染料の原料および顔料の製造業のジアゾ化の反作用で使用される窒化物の超過分を取除きます。prese窒化物。
Sulphamic Acid removes excess of nitrides used in the diazotization reactions in the manufacturing of dye stuffs and pigments. Nitrides if prese.

ガリウム窒化物：n型、p型および半絶縁性窒化ガリウム基板、ならびに、低、マルコ欠陥密度および転位密度が低い、リード、ldまたは他の用途のための鋳型またはガンエピウェハウェハ。
Gallium Nitride: N type, p type and semi-insulating gallium nitride substrate and template or GaN epi wafer for HEMT with low Marco Defect Density and Dislocation Density for LED, LD or other application.

数種類の窒化アルミニウムフィラーをブレンドして、80vol%充填したときの熱伝導率は12W/mKとなり、エポキシ樹脂の約60倍の熱伝導率を発現します。
When several kinds of aluminum nitride filler are blended and filled at 80 vol%, the thermal conductivity becomes 12 W/ mK and it shows about 60 times the thermal conductivity of epoxy resin alone.

特長1化学反応作用によらず、イオン化された窒素ガスによる窒化処理のため、公害対策などの特別な設備の必要がなく、作業環境は極めて良好です。
Feature1The nitriding processing using ionized nitrogen gas does not involve any chemical reactions and provides a clean working environment without the need for special anti-pollution equipments.

この処理は大きな窒化力と、低温でも高い粘性があり、エンジンバルブの硬質クロムめっきの代わりとして(技術的およびコストの点で)理想的な処理法です。
This treatment offers great nitriding power and great low-temperature viscosity. It is the ideal treatment(from a technical and economic point of view) for replacing hard chromium-plating on engine valves.

クロム|Planseeクロム(Cr)、窒化クロム(CrN)の硬質材料コーティングは、ピストンリング、バケット、タペットなどのエンジン部品を早期摩耗から最適に保護し、結果的に大切なエンジン部品の耐用年数を延ばします。
Chromium| Plansee The hard material coatings chromium(Cr) and chromium nitride(CrN) optimally protect engine components such as piston rings against premature wear and consequently extend the useful life of important engine parts.

同システムはDPN製品群の窒化機能をダイナミックランダムアクセスメモリ(DRAM)のペリフェラルゲート用にさらに進化させ、アプライドマテリアルズが長年にわたってリードしてきたロジックデバイスにおける先進窒化技術を補足するものです。
It extends the nitridation capabilities of the DPN product portfolio for the dynamic random access memory(DRAM) peripheral gate and complements Applied's long-standing, leading-edge nitridation technology for logic devices.

堅いクロム、窒化およびHCOFの処置はすべて球の表面処理のために利用できま、硬度、摩耗抵抗、疲労の抵抗、耐食性および性能を高温の下で改善します。
Hard chromium, nitriding, and HCOF treatments are all available for the ball surface treatment, improving hardness, abrasion resistance, fatigue resistance, corrosion resistance and performance under high temperature.

EVのバンド隙間で、窒化ガリウムは目に見えない紫外線を放つが、いくつかのガリウムがインジウムと交換されるとき、すみれ、青、および緑色のような色は発生します。
With a band gap of 3.4 eV, gallium nitride emits invisible ultraviolet light, but when some of the gallium is exchanged for indium, colors like violet, blue, and green are produced.

ASSAB709は、火炎焼入れおよび高周波焼入れに適しています。ASSAB709はまた、表面硬度600-650ビッカースに窒化処理または軟窒化処理が可能です。
ASSAB 709 is suitable for flame and induction hardening and can also be nitrided or tufrided to a surface hardness of 600-650 Vickers.

更に国内で初めて超大型窒化炉(PPD炉)を導入し、自動車外板パネル用鋳物型など、これまで硬化処理できなかった大型金型でも耐久性を高める処理が可能となりました。
We also introduced the first in Japan, ultra-large nitriding furnace(PPD furnace), making it possible to apply nitriding to improve the durability of large dies, such as casting dies for automobile exterior panels.

特長六方晶窒化ほう素粉末は、熱伝導性、耐熱性、耐食性、電気絶縁性、潤滑・離型性に優れた材料で、各種マトリックスへの添加材として使用されております。
Characteristics Hexagonal boron nitride powder is a material showing excellent thermal conductivity, heat and corrosion resistance, electric insulation, lubrication/demolding performance, and used as an additive to various types of matrixes.

アプライドマテリアルズのALDシステムは、先進のトランジスタ、メモリおよび配線アプリケーション向けに、酸化、メタル窒化、メタルを一度に単層ずつ微量に成膜することで、極薄の層を成膜します。
Applied's ALD systems deposit a variety of oxides, metal nitrides, and metals on the wafer one fraction of a monolayer at a time to create ultra-thin layers in advanced transistor, memory, and interconnect applications.

本研究では、自発分極が非常に大きい極性半導体酸化物や窒化物も候補材料として位置付けて、分極界面の機能を開拓する電子セラミックスの研究開発を推進する。
In my research, polar semiconductor oxides and nitrides with very large spontaneous polarization are also considered as a candidate. I promote the research and development for these materials by exploiting the function of polarization interfaces.

カーバイドや石灰窒素の製造で培った焼成技術を応用し、1971年には溶融シリカや窒化ホウ素（BN）を販売開始し、その後もさまざまなファインセラミックス材料を開発しました。
In 1971, we began sales of fused silica and boron nitride based on application of the sintering technology we accumulated through our manufacture of carbide and calcium cyanamide(nitrogenous lime). We also developed various fine ceramics materials thereafter.

雰囲気制御により化合物層厚さも含めた窒化層の組成を管理できるため、要求される機能に対して最適な窒化特性を提供することが可能です。
We are able to control the composition of the nitriding layer, including the thickness of the compound layer, by controlling the atmosphere. This enables us to provide optimal nitriding properties to accommodate the required function.

酸化物や窒化物など既存の無機材料と比べ、複合アニオン化合物では特異な配位構造や結晶構造が得られるため、根源的に異なる革新的機能が現れる可能性が秘められています。
Compared with existing inorganic compounds such as oxides and nitrides, unique coordination and crystal structures are obtained from such mixed anion compounds, it is possible that fundamentally different, innovative functions may be created.

材料アルカリや酸などの耐薬品、耐食性が要求される場合は、アルミナが使用され、耐熱性が要求される場合は窒化ケイ素が使われています。
Material When resistance to chemicals, such as alkalis and acids, and resistance to corrosion are required, alumina UHA-99 is used. When resistance to heat is required, silicon nitride EC-141 is used.

スズ、銅、白金、多くの金属、酸化物、窒化物。
oxides, nitrides.

従来のサファイアに加えて、シリコン（Si）、シリコンカーバイド（SiC）基板材料、酸化亜鉛（ZnO）および窒化ガリウム（GaN）なども、現在のLEDチップ研究の焦点である。
In addition to traditional sapphire, silicon(Si), and silicon carbide(SiC) substrate materials, zinc oxide(ZnO) and gallium nitride(GaN) are also the focus of current LED chip research.