ETCH - 한국어로 번역

• 식각
• 에칭
• etch
• 에치
• etch는

영어에서 Etch 을 사용하는 예와 한국어로 번역

The only chemicals that etch sapphire are molten salts.
사파이어를 에칭하는 유일한 화학 물질은 용융 염입니다.

A specific etch step may be performed on one or more film layers.
특정한 식각 단계를 하나 또는 여러 필름 층에서 수행할 수 있습니다.

In the semiconductor industry, it is used to both etch semiconductor crystals and to purify silicon via trichlorosilane(SiHCl3).
반도체 공업에서는, 그것은 두 식각 반도체 결정 전부 사용되고 trichlorosilane (SiHCl3)를 통해 순화하기 위하여 실리콘을.

Finally, Wireshark supports multiple protocols such as ADwin, Apache Etch, JSON, reload or Wi-Fi P2P(Wi-Fi Direct).
마지막으로, 와이어 샤크는 애드 윈, 아파치 에칭, JSON, 여러 프로토콜을 지원 다시로드 또는 Wi-Fi 인터넷 P2P (와이파이 다이렉트).

All systems available in Plasma Etch work in most gas and gas combinations as well as in argon gas.
Plasma Etch에서 사용 가능한 모든 시스템은 대부분의 가스 및 가스 조합뿐만 아니라 아르곤 가스에서도 작동합니다.

The iXL600M and iXL1000M variants are process hardened and specially designed for dielectric(oxide) etch and other similar applications.
IXL600M과 iXL1000M 변형 제품들은 절연체(산화물) 식각 및 기타 유사한 어플리케이션용으로 강화되었으며 특별히 고안되었습니다.

An acid etch in a solution of 45 parts nitric acid,
산 에칭의 솔루션 45 부품 질소 산,

Whether for PECVD/PVD/Etch, Solar PECVD or industrial coatings, the cito family of generators will meet your expectations.
Cito generator는 PECVD/PVD/Etch, Solar PECVD 뿐만 아니라 코팅 산업까지 고객의 기대를 충족시킬것입니다.

While offering the highest throughput density with the Twin Chambers and a two-FOUP, dual robot factory interface, Producer Etch delivers single-chamber performance and process control.
Producer Etch는 Twin Chamber와 FOUP가 2개인 이중 로봇 팩토리 인터페이스로 최고 수준의 처리량을 제공하고 단일 챔버 작동과 공정 제어 기능을 구현합니다.

The PlasmaView process analysis viewing system provides an intuitive interface for viewing detailed plasma etch process analyses.
PlasmaView 공정 분석 보기 시스템은 상세한 플라즈마 식각 공정 분석을 보기 위한 직관적인 인터페이스를 제공합니다.

The nitride pad layer 820 and nitride spacers 861 can be removed using a phosphoric etch or other suitable techniques.
질화물 패드층(820) 및 질화물 스페이서(861)는 인 에칭 또는 다른 적합한 기술을 이용하여 제거될 수 있다.

Dry Etch, and CVD process of a FAB Line or a CVD process of an LCD Line.
Dry Etch, CVD 공정 및 LCD Line의 CVD 공정에 주로 사용됨.

The Applied Producer Etch, with its patented Twin Chamber® design, is a reliable, cost-effective production tool for high-productivity etch applications at 90nm and below.
특허를 받은 Twin Chamber® 설계를 적용한 Applied Producer Etch는 90nm 이하의 고생산성 식각 응용 분야를 위한 믿을 수 있고 비용 효과적인 생산 도구입니다.

SPTS offers etch and deposition processes for a wide range of compound semiconductor materials.
SPTS는 다양한 화합물 반도체 소재를 위한 식각 및 증착 프로세스를 제공하고 있습니다.

Technical Golden Etch Stainless Steel With Factory Directly Sell.
기술 골든 에칭 스테인레스 스틸 공장은 직접 판매.

New 200mm technology challenges that Applied Centura Etch Reactors address include: silicon etching of aspect ratios>100:1 for MEMS….
어플라이드의 Centura Etch Reactor가 해결하는 200mm 기술의 새로운 당면 과제로는 MEMS를 위한 종횡비 >100:1의 실리콘 식각, SJ MOSFET를 위한 올인원 하드 마스크 오픈 트렌치 스트립.

Etch processes can be very challenging to the pump because of the various gases used.
펌프에서는 다양한 가스가 사용되므로 식각 공정이 매우 까다로울 수 있습니다.

For drawing or touching up etch resist circuits or PC boards and on positive films.
그리기 또는 회로 또는 PC 보드와 긍정적 인 필름에 저항 에칭 감동하십시오.

Its uptime, throughput, and low cost of ownership make Producer Etch the ideal work horse for high-productivity etch applications.
가동 유지 시간과 처리량이 높고 소유 비용이 낮은 Producer Etch는 고생산성 식각 응용 분야에 적합합니다.

The Producer® Selectra™ Etch system introduces unprecedented capabilities for sustaining the momentum of Moore's Law through further scaling of 3D logic and memory chips.
Producer® Selectra™ Etch 시스템은 3D 로직 및 메모리 칩의 추가적인 미세화를 통해 무어의 법칙의 모멘텀을 유지하는 유례 없는 능력을 제공합니다.