AS DISCUSSED ABOVE - 日本語 への翻訳

• 上述したように
• 前述の通り
• 上で説明されているように
• 前述したように
• 上記で論議されるように
• 上で述べたように
• as described above
• 上述した通り
• 上述のとおり
• 上記で説明したとおり

英語 での As discussed above の使用例とその 日本語 への翻訳

However, as discussed above, anxiety reactions that are more prolonged or intense are classified as adjustment disorders.
しかしながら、上述のように、長期間にわたってみられるか強力な不安反応は適応障害に分類されている。

As discussed above, there are three different ways that full employment can occur.
上述の通り、労働問題については、大きく分けて3種類の解決方法があります。

If this numerical value is taken into account, the calculated value larger than the angle calculated as discussed above can be obtained.
この数値を考慮に入れると上記議論で算出した角度よりも大きな計算値が得られる。

As discussed above, penetration enhancing agents can also be used to increase the flux of the compound across the skin.
上で議論されたように、浸透増強剤もまた、皮膚を通しての化合物の流れを増加させるために使用され得る。

As discussed above, some conventional lead extraction devices require the physician/surgeon to fully operate the device manually.
上述のように、いくつかの従来のリード線抜去デバイスでは、医師／外科医がデバイスを手動で完全操作する必要がある。

As discussed above, each laser pulse 112 has a temporal pulse width that is less than approximately 1 nanosecond.
上述のように、各レーザパルス112は、約1ナノ秒未満の時間的パルス幅を有する。

The solitons as discussed above arise in a situation where the pulse does not exchange energy with the fiber.
上で議論されたソリトンはパルスがエネルギーをファイバーと交換しない状況下で生じる。

As discussed above, the adrenal glands release androgens and can ultimately promote acneic conditions in the skin.
上記で議論したように、副腎はアンドロゲンを放出し、最終的に皮膚のざ瘡状態を促進することができる。

As discussed above, the products of First Wave ISVs reached millions of consumers.
前述のように、ファーストウェーブ契約ＩＳＶの製品は数百万の消費者に及ぶ。

The distribution of chlorine species between HOCl and OCl- is determined by pH, as discussed above.
HOClとOCl-との間の塩素種の分布は、上述のようにpHによって決定されます。

The existence of an almost complex structure is a topological question and is relatively easy to answer, as discussed above.
概複素構造の存在は、トポロジカルな問題であり、上記の議論したように比較的答えやすい。

As discussed above, in some embodiments, authorization to proceed with the payment transaction can be provided through a fingerprint sensor e.g., 702 of FIG.
上述したように、いくつかの実施形態では、支払トランザクションを進める許可は、指紋センサ（例えば、図７Ｄの７０２）によって提供することができる。

Namespacing Your Application As discussed above, the default application namespace is App; however, you may change this namespace to match the name of your application, which is easily done via the app: name Artisan command.
アプリケーションの名前空間付け前述の通り、デフォルトのアプリケーション名前空間はAppです。しかし、app:nameArtisanコマンドにより簡単に変更することもできます。

As discussed above, to date, a system designer has had little choice when designing loudspeaker systems with extended low-frequency response.
上述したように、現在までシステム設計者は、拡張された低周波数応答特性を有するスピーカシステムを設計するときに彼等には殆ど選択肢がなかった。

As discussed above, this spatially stabilized relationship between a subject and the support structure of the invention is found in other embodiments of the invention and in relation to various apparatus and processes.
上述したように、対象と本発明の支持構造との間の、空間的に安定した関係は、本発明の他の実施例およびさまざまな装置とプロセスの関係で見出すことができる。

As discussed above, the environment passed to CGI scripts includes standard meta-information about the request in addition to any variables set within the Apache configuration.
上で説明されているように、CGIスクリプトに渡される環境変数はApacheの設定により設定される変数に加えて、リクエストの標準のメタ情報を含んでいます。

However, as discussed above, a rapid decline in CO2 output can still potentially lead to a 2.8ºC global average temperature increase by the end of this century.
しかし、前述したように、二酸化炭素排出量が急速に減少したとしても、なお、今世紀末までに世界の平均気温は2.8度上昇する可能性があるのだ。

As discussed above, most conventional lead extraction techniques rely either on rudimentary manual cutting devices or laser or diathermic devices that ablate surrounding tissue using laser or electrical energy.
上で説明されているように、大半の従来のリード線抜去技術は、初歩的な手動切断デバイスまたはレーザーもしくは電気エネルギーを使用して周辺組織を切除するレーザーもしくは透熱デバイスのいずれかに依存する。

(But, as discussed above, it would be a mistake to assume that the green/yellow safety wire was adequate for achieving the filter's EMC performance.).
だが、上で述べたように、緑／黄の安全ワイヤがフィルタのEMC性能を達成するために充分であると仮定することは誤りであろう。

As discussed above, the positions of arrays 33,43, and hence the patterned beams may be adjusted in response to surface deformations of substrate 13 and/or thermal expansion of substrate 13.
上記で論じたように、アレイ３３、４３の位置、したがってパターン形成されたビームの位置を、基板１３の変形及び／又は基板１３の熱膨張に応答して調整し得る。