DEPOSITION - 日本語 への翻訳

• 蒸着
• 堆積
• 沈殿
• 成膜
• 沈着
• deposition
• 形成
• 析出
• 溶着
• デポジション
• 宣誓

英語 での Deposition の使用例とその 日本語 への翻訳

Inhibits abnormal deposition of electroless Ni plating.
無電解Niめっきの異常析出を抑制します。

Ruthenium is used to suppress carbon deposition.
ルテニウムでカーボン析出を抑制。

Deposition down, static deposition(or in-line deposition)..
デポダウン、静止成膜（インライン成膜も対応可能）。

Improve calcium deposition in bones of osteoporosis patients.
骨粗鬆症患者の骨の中のカルシウムの沈着を改善します。

About air pollutants and their wet and dry deposition;
大気汚染物質及びそれらの湿性及び乾性沈着の。

Pulsed Laser Deposition.
パルスレーザ堆積法。

Prevent unwanted deposition on surfaces.
表面上の望ましくない堆積を防ぎます。

This is the video deposition of Carrie Anne Mathison.
これはキャリー・マティソンの供述映像です。

This gene variant seems to encourage amyloid deposition in the brain.
この変形遺伝子は脳内のアミロイド沈着を促進します。

This is the video deposition of Carrie Anne Mathison.
これはキャリー・マティソンの供述映像です。

Ion assisted deposition.
イオンアシスト方式。

Vacuum Deposition for Si Anrod.
のアノードSi真空成膜装置。

Creative Design Deposition.
創作デザイン寄託。

Semiconductor manufacturing inspection devices in general, a vacuum device(sputter, deposition, CVD, etching), sales and repair of the cleaning device.
半導体製造検査装置全般、真空装置（スパッタ・蒸着・CVD・エッチング）、洗浄装置の販売・修理。

Type of travertine deposition rate faster, it can be seen at the beach surface of living trees, the yellow surface Epiphytic calcium milk.
トラバーチンの堆積速度のタイプよりは、木々の生活のビーチの表面に見られる、黄色の表面に着生カルシウム牛乳。

Description of technologies, equipment and services UK vacuum applications supplier of ceramic materials, substrates and finished components used in vacuum deposition systems.
技術、機器およびサービスの説明真空蒸着システムで使用されるセラミック材料、基板、完成部品のUK真空用途サプライヤー。

The metal decoration plating machine has features of fast deposition, high ionization rate, strong adhesion, droplets less advantages.
金属の装飾のめっき機械は速い沈殿、高いイオン化率、強い付着、しぶきの特徴をより少ない利点備えています。

Is caused by calcium carbonate in the water, after thousands of years of deposition, the formation of jade silver Zhuo's Millions"terraces.
水中での炭酸カルシウムによって引き起こされる、蒸着数千年にわたって、形成の後に玉銀卓の百万"テラス"。

Features: fast deposition, strong adhesion, bright colors, easy operate and low power consumption for a beneficial coating service.
特徴:速い沈殿、強い付着、容易な明るい色は有利なコーティングサービスのための作動し、低い電力の消費。

After completing deposition of the first semiconductor film, the processing substrate is pulled out into the common chamber and then transported to the third chamber 13.
第１の半導体膜の成膜終了後、処理基板は共通室に引き出され、第３のチャンバー１３に移送される。